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纳米稀土粉体产品
抛光粉体:氧化铈/氧化铝/氧化铬
一.氧化铈抛光粉 :

【应用领域】

    1. 各类光学元件（透镜、棱镜等）、人工晶体的高精密加工；
    2. 超薄平板玻璃基片的平坦化加工；
    3. 玻壳、镜片、表门的高速抛光；
    4. 大理石、水晶玻璃饰品的表面加工。

【产品性能】

Repolix 氧化铈抛光粉产品的特色：

(1) 抛光精度更高

采用纳米合成技术，通过控制沉淀过程的晶体形成与生长并防止焙烧过程的团聚，使得抛光粉颗粒更细、更均匀，所加工产品的成品率大大提高。

(2) 不同抛光工艺所用的抛光粉的性能各具特色

尽管过筛目数相同，但古典法低速抛光所用产品密度大、易沉降，而高速抛光工艺所用抛光粉具有悬浮性好，易重新分散，不产生泡沫，易清洗的特点，大大方便了工人的操作。

（3）品种齐全,更多选择

我公司采用纯氧化铈、镧铈富集物和混合稀土三种不同含铈量的稀土原料，配合不同的生产工艺，生产四大类18种各具特点的抛光粉产品，以满足用户对性能、价格等多层次的需求。

（4）质量优良， 价格最优

由于本公司以稀土新产品开发为主营业务，因而在稀土原料的的获取和规模化生产方面具有优势，保证了产品价格的竞争力，力争做到产品的性能价格比最优。

【技术指标】

氧化铈磨料

型号
产品特性
 颗粒大，浅黄色，比重大，流动性好。
应用领域
 水晶、饰品抛光盘（粉盘）； 聚胺酯抛光片、抛光轮添加材料； 抛光蜡板添加； 古典低速光学加工，尤其是透镜等球面加工； 磨边与手修处理；
化学成分
 TREO>99%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度
D10
> 15
> 12
> 8
> 6
> 4
> 1
D50
28±5
24±2
20±2
16±2
12±2
4±2
D90
< 80
< 60
< 45
< 32
< 24
< 12

纯氧化铈抛光粉

型 号
产品特性
 纯氧化铈抛光粉，颜色浅黄。悬浮性好，硬度中等。
适用领域
 用于ZK、LaK等较软玻璃材料的快速抛光或较硬材料的高精度抛光，如玻璃磁盘，IC光掩膜、硅片等。
化学成分
 TREO>95%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
<4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

富铈稀土抛光粉

型 号
产品特性
 富铈抛光粉，白色，硬度较高，悬浮性好。
适用领域
 适用于较硬材料的光学加工，如K9，K7，超薄玻璃基片等的抛光等。
化学成分
 TREO>95%, CeO2/TREO>70%
颗粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

混合稀土抛光粉

型 号
产品特性
 通用型低铈抛光粉,棕红色，抛光速度快，价格低。
适用领域
 适普通光学镜头、玻壳、镜片、平板玻璃、钮扣、水晶饰品、表门等材料的抛光。
化学成分
 TREO>95%, CeO2/TREO>50%
颗粒度
D10(um)
> 0.1
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10
二.氧化铝抛光粉 :

【应用领域】

    1. 电子行业：电子行业单晶硅片的研磨；
    2. 装饰行业：不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光；
    3. 喷涂材料：等离子喷涂；
    4. 光学玻璃冷加工。

【产品性能】

颗粒圆滑，不易产生划痕。粒度分布范围窄，硬度高（模氏硬度9），磨削力强，研磨后材料表面质量好。

【技术指标】

指标/级别
PL-A-1
晶型
α
纯度（%）≥
99.99
中位粒径 d50(μm)
0.5-2.0
松装密度 (g/cm3)
0.3-0.6
比表面积 (cm2/g)
5-12

二.氧化铬抛光粉 :

【应用领域】

晶体氧化铬的莫氏硬度为9，仅次于金刚石(10)，而与刚玉(氧化铝)、金刚砂(碳化硅)相同。比常见的石英、玛竭(7度)，长石(6度)，钢铁及玻璃(5．5-6、5度)硬得多，因此广泛用于陶瓷、机械、仪器、钟表、光学玻璃的研磨与抛光。

【产品性能】

颗粒圆滑，不易产生划痕。粒度分布范围窄，硬度高，磨削力强，研磨后材料表面质量好。

【技术指标】

指标/级别
PL-CR-05
PL-CR-20
纯度（%）
≥ 99
≥ 99
中位粒径d50(μm)
0.5
2.0
松装密度(g/cm3)
1.4
1.4
比表面积(cm2/g)
5-12
5-12

 
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